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Mitutoyo 三丰明视场用近紫外区校正物镜 M Plan Apo NUV / M Plan Apo NUV HR

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Mitutoyo 三丰明视场用近紫外区校正物镜 M Plan Apo NUV / M Plan Apo NUV HR

Name: Mitutoyo 三丰明视场用近紫外区校正物镜 M Plan Apo NUV / M Plan Apo NUV HR
Rating: 4.8 (80 reviews)

半导体量测先进封装测试显示面板检测 PCB线路板检测工业高倍显微物镜紫外相机

M Plan Apo NUV（标准型，明视场近紫外校正）
核心特点：无限远校正、平场复消色差、355–620nm（近紫外 - 可见光）色差校正、长工作距离，适配 355nm 激光加工与明视场观察。
M Plan Apo NUV HR（高分辨率型）
核心特点：标准 NUV 的高分辨率版，NA 更高、分辨率提升约 50%，355–620nm 校正，适配高精度近紫外成像。

半导体量测先进封装测试显示面板检测 PCB线路板检测工业高倍显微物镜紫外相机

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产品详情

一、M Plan Apo NUV（标准型，明视场近紫外校正）

核心特点：无限远校正、平场复消色差、355–620nm（近紫外 - 可见光）色差校正、长工作距离，适配 355nm 激光加工与明视场观察。

型号	货号	倍率	NA	工作距离 WD (mm)	焦距 f (mm)	分辨率 R (μm)	焦深 DF (μm)	φ24 视场 (mm)	重量 (g)
M Plan Apo NUV 10×	378-809-5	10×	0.30	30.5	20	1.0	3.0	φ2.4	310
M Plan Apo NUV 20×	378-817-8	20×	0.42	17.0	10	0.7	1.7	φ1.2	350
M Plan Apo NUV 50×	378-818-8	50×	0.45	13.0	4	0.65	1.5	φ0.48	390
M Plan Apo NUV 100×	378-819-4	100×	0.50	11.0	2	0.60	1.1	φ0.24	380

安装：M26×36TPI，齐焦距离 95mm。
适用：半导体 / 液晶面板缺陷修复、355nm 激光加工、近紫外明视场观察。

二、M Plan Apo NUV HR（高分辨率型）

核心特点：标准 NUV 的高分辨率版，NA 更高、分辨率提升约 50%，355–620nm 校正，适配高精度近紫外成像。

型号	货号	倍率	NA	WD(mm)	f(mm)	R(μm)	DF(μm)	φ24 视场 (mm)	重量 (g)
M Plan Apo NUV HR 50×	378-888-6	50×	0.65	10.0	4	0.42	0.65	φ0.48	500

适用：半导体微细结构检测、高精度 355nm 激光加工、近紫外高分辨率显微。

三、共同规格（两款通用）

校正波段：355–620nm（近紫外至可见光），设计波长 355nm、532nm。
光学设计：无限远校正、平场复消色差（Plan Apo），无盖玻片设计。
机械接口：M26×36TPI，齐焦距离 95mm，最大直径 φ34–39mm。
适配显微镜：VMU/FS-70/FS70L/VMU-L 系列。
工作环境：温度 - 5°C～+45°C，湿度 20%–80%。

四、选型速览

标准近紫外观察 / 激光加工：选 M Plan Apo NUV（10×/20×/50×/100×，长 WD）。
高分辨率近紫外成像：选 M Plan Apo NUV HR 50×（NA0.65，分辨率 0.42μm）。

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